ALD(原子層堆積)に関するウェビナー(Webセミナー)開催のお知らせ

コロナ禍において各種展示会が中止となり、対面ミーティングもなかなか出来ない状況ですが、新しい技術をご検討されるお客様のためにPICOSUN JAPANがALDに関するウェビナーを開催致します。
どうぞお気軽にご参加下さい。

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①【定期開催】Webセミナー『ALDの原理・アプリケーション・量産まで』



開催方法: Microsoft Teamsによるオンラインセミナー
受講料:無料
講師:八尋 大輔(PICOSUN JAPAN(株) セールスマネージャー)
日時:毎週月・金 開催(時間帯は週により変わりますので、お問合せください。
所要時間:45分程度(質疑応答は除く)
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内容:
1) PICOSUN社 紹介
2) ALDの特徴・原理:成膜プロセス、GPC(成膜レート)、サイクル時間など
3) ALDの特性:バリア性、電気特性、応力など
4) アプリケーション紹介:半導体、キャパシタ、RF、光デバイス、MEMS、装置部品、バイオメディカルなど
5) 装置ラインナップ:枚葉R&D装置、バッチ・クラスタ量産装置、大型チャンバ装置など
6) 質疑応答

詳細・お申込み:iPROSものづくり PICOSUN JAPAN Webセミナーページ

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②【2021年2月5日】Webセミナー『研究開発・材料探索のための成膜技術』
様々な成膜技術を使用した材料探索の新情報が分かる!各分野のリーディングカンパニーによる広範な情報が得られる機会はここだけ!
2021/02/05 多くの方々にご参加いただき、好評をもって終了いたしました。ありがとうございました。


開催方法: Microsoft Teamsによるオンラインセミナー(アカウントをお持ちでなくてもご利用いただけます)
受講料:無料
参画各社:PICOSUN JAPAN株式会社、株式会社シンクロン、株式会社高純度化学研究所所
日時:2021年2月5日(金)
所要時間:14:00~17:00(質疑応答の状況により延長する可能性があります)
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内容:
成膜方法には様々なものがありますが、求める性能をうまく発揮できるような成膜手法を選択することが重要です。特に先端分野の研究開発向けには成膜の先端技術を適用する必要がありますが、どの手法が適切か分からない場合も多いのではないでしょうか。
今回PICOSUN JAPANは、先端分野の薄膜研究開発を行う方々を対象にWebセミナーを企画しました。トップクラスのメーカー三社が、様々な成膜方法の特徴、適した用途、具体的な事例などのご紹介をいたします。

1) ALDによる研究開発最前線(PICOSUN JAPAN株式会社)
・ALDの成膜原理と量産アプリケーション
・研究開発テーマ紹介(例:ナノラミネート・混合材料による膜質調整、MLD、ドーピング、多孔質膜など)
・装置ラインナップ
2) P-RASによる最先端材料探索(株式会社シンクロン)
・反応性スパッタとRAS
・応用事例の紹介(例:多元系成膜など)
・P-RAS紹介
3) CSD(塗布法)を用いた薄膜形成技術と応用事例(株式会社高純度化学研究所)
・CSD法とはどのような成膜技術か
・一般的なCSD材料の製造法と成膜方法
・応用事例(CSDによる材料探索と成膜事例)

詳細・お申込み:iPROSものづくり PICOSUN JAPAN Webセミナー特設ページ
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