ALD(原子層堆積)に関するウェビナー(Webセミナー)開催のお知らせ

コロナ禍において各種展示会が中止となり、対面ミーティングもなかなか出来ない状況ですが、新しい技術をご検討されるお客様のためにPICOSUN JAPANがALDに関するウェビナーを開催致します。
どうぞお気軽にご参加下さい。

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①【定期開催】Webセミナー『ALDの原理・アプリケーション・量産まで』



開催方法: Microsoft Teamsによるオンラインセミナー
受講料:無料
講師:八尋 大輔(PICOSUN JAPAN(株) セールスマネージャー)
日時:毎週月・金 開催(時間帯は週により変わりますので、お問合せください。
所要時間:45分程度(質疑応答は除く)
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内容:
1) PICOSUN社 紹介
2) ALDの特徴・原理:成膜プロセス、GPC(成膜レート)、サイクル時間など
3) ALDの特性:バリア性、電気特性、応力など
4) アプリケーション紹介:半導体、キャパシタ、RF、光デバイス、MEMS、装置部品、バイオメディカルなど
5) 装置ラインナップ:枚葉R&D装置、バッチ・クラスタ量産装置、大型チャンバ装置など
6) 質疑応答

詳細・お申込み:iPROSものづくり PICOSUN JAPAN Webセミナーページ

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②【2020年11月10日】Webセミナー『ALD量産完全マスター講座』
ALDの量産に必要な全てがこれで分かる!装置・原料・受託加工の各分野におけるリーディングカンパニー各社がとっておきの情報を披露!


開催方法: Microsoft Teamsによるオンラインセミナー
受講料:無料
参画各社:PICOSUN JAPAN株式会社、株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン、株式会社トリケミカル研究所
日時:2020年11月10日(火)
所要時間:14:00~17:00(質疑応答の状況により延長する可能性があります)
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内容:
ALD (Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性が高いなどの特長があります。 今回、ALDを量産向けにご検討のお客様へ、装置・原料・受託加工各社がそれぞれの切り口から、ALD技術の概要や量産工程に必要な注意点などをご説明いたします。

1)ALD原理(PICOSUN JAPAN株式会社)
・ALDの特性と他の成膜との比較
・ALD成膜原理:ALDサイクルと成膜速度
・膜質をどうチューニングするか
2)成膜装置(PICOSUN JAPAN株式会社)
・実績アプリケーション例
・装置の基本構成、枚葉装置・バッチ装置・クラスター
・各機種の紹介、デモ・アフターサービス
3)原料プリカーサ(株式会社トリケミカル研究所)
・プリカーサに必要な条件とは
・実例:物性・測定データ・安全性など
・分子設計:蒸気圧や液体状などのニーズに応える
4)ファンドリ(株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン)
・MEMSジャイロ実績:ALDによる耐久性向上など
・ALD受託成膜紹介
・関連プロセス:Si加工、PZT成膜など

詳細・お申込み:iPROSものづくり PICOSUN JAPAN Webセミナーページ
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