2019/10/21 「SEMICON Japan 2019」に出展いたします(2019/12/11~13 東京ビッグサイト)


「SEMICON Japan 2019」に出展いたします。お誘いあわせの上お越しください。
皆様のお越しを弊社出展ブース(5377)にてお待ち申し上げております!


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SEMICON Japan 2019
https://www.semiconjapan.org/jp/

会期:2019年12月11日(水)~13日(金)
開催時間:10:00~17:00
会場:東京ビッグサイト 西展示棟ホール3 
ブース番号:5377(前工程ゾーン)

【展示品】
フィンランド Picosun社ALD成膜装置(パネル、成膜サンプル展示)

PICOSUN JAPAN㈱はMEMSデバイスの生産において近年特に重要視されている成膜技術であるALD(アトミックレイヤーデポジション)成膜装置をご案内いたします。
ALDは既存のPVD,CVD、蒸着等の成膜技術より下記の点において優れているため、急速に市場に浸透してきています。
例えば・・・
⇒ 段差被覆性に優れている
⇒ 膜厚が1原子層レベルで制御でき、膜厚分布が良い
⇒ バリア性が高く膜質が良い
⇒ 低温(e.g.100℃)でも成膜できる

PICOSUN JAPAN㈱はALD専業装置メーカーであるフィンランドPicosun社の日本法人です。
ALD法はDr.Tuomo Suntolaによって発明され(現Picosun社役員、技術顧問)、装置設計は40年以上、15世代に渡っており、ALDの歴史そのものと言っても過言ではありません。装置は研究開発用から量産機、クラスター装置等幅広いラインナップとなっており、デバイス開発のサポートから量産まで幅広く対応しております。

ご来場ならびにお問合わせ、お待ちしております。
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