ALD装置の世界的なリーディングカンパニーであるピコサン社の日本法人が、量産工程におけるもっともポピュラーな機種であるP-300Bのデモ装置を立ち上げました。

当面はAl2O3、TiO2、ZnO、HfO2、SiO2などのプロセスが予定されており、マーケットの要望に応じてZrO2、Ta2O5その他の膜種も検討して参ります。

同じアルミナのALD成膜であっても、プロセスが最適化されているかどうかは、均一性その他の膜質や量産性において大きな違いをもたらします。
世界最高峰のALDプロセスがどれほど新プロセス開発に寄与するか、是非一度お試しください。

ご連絡はIPROSを通じて、もしくはPICOSUN JAPAN株式会社まで直接ご連絡ください。